1、微納米尺寸的光柵廣泛應用于位移測量、光波耦合、空間調制等領域，是微光學、納米光子學、表面等離子體光學中重要的微光學器件。目前，微納加工技術已經(jīng)代替了傳統(tǒng)機械方法，成為加工光柵的主要手段。但是，現(xiàn)有的應用于加工光柵的微納方法都面臨著成本昂貴、生產(chǎn)效率不高、設備復雜的問題。而納米壓印技術由其固有特點，有望解決這些問題。本文對納米壓印技術在光柵制造領域的應用途徑進行了深入探討，分析了目前應用納米壓印技術制作光柵的關鍵問題，認為壓印模板成本過高

2、和相關工藝不成熟是制約該方法應用的最大瓶頸。圍繞這些問題，本文分別對壓印模板制備和壓印過程工藝兩大方面進行了研究。
　　本文提出了利用硅的各向異性濕法腐蝕工藝來制作壓印模板的方法。依照該方法，本文成功制備了V型剖面模板、金字塔結構模板、二維方形陣列模板。其中V型剖面模板周期達到2μm，閃耀角高達54.7°；二維方形陣列模板可以達到與激光直寫加工相同的制作水平。這種方法成本低廉，操作簡單，適合大規(guī)模生產(chǎn)。所獲的壓印模板結構良好、表面

3、光滑，十分適合用作納米壓印模板，具有很強的實際應用價值。除此之外，本文對壓印模板的復制技術進行了研究，建立了采用微電鑄技術來復制已有壓印模板的方法。在工藝實施過程中，文本提出應用圖形轉移載體來避免了微電鑄工藝對母板的損壞。本文使用自制系統(tǒng)成功復制了多種金屬鎳壓模，達到了很高的復制精度。
　　本文對光柵制造過程中的壓印工藝進行了詳盡的研究。對于二維光柵與閃耀光柵的制作，分別設計了對應的壓印工藝方案。并在實施過程中，解決了遇到的脫膜時