1、隨著光刻技術在微加工領域的廣泛應用，如何有效地測試和評價準分子激光光學系統(tǒng)已經(jīng)成為光刻技術研究中的關鍵問題。如曝光系統(tǒng)的光束不均勻，將導致同一掩模圖形上相同相位臺階的曝光深淺不一致，從而導致掩模圖形中間部分的曝光量大于周圍，造成周圍部分曝光量不足或中間部分曝光過度。對曝光系統(tǒng)光束能量利用率的問題和通過投影系統(tǒng)后激光光束整體均勻性要求，都需要一些定量的評價指標：譬如準分子激光光束均勻性評價指標，主要有加工窗口、能量分數(shù)、平頂因子和別的評價

2、指標如：光束質量M2因子。討論投影光刻光學系統(tǒng)的評價標準能幫助我們定義投影光刻光學系統(tǒng)的要求和評價其好壞。雖然這些評價指標不會反映投影光刻光學系統(tǒng)的所有問題，但是這些評價指標可以幫助優(yōu)化投影光刻光學系統(tǒng)，本文通過測試光學系統(tǒng)，討論各種光學系統(tǒng)評價指標以及它們之間的聯(lián)系，最后得出這些評價指標對評價投影光刻光學系統(tǒng)的具有一定的意義。
　　 本文是基于351nm XeF激光大面積投影成像光刻系統(tǒng)，通過對其光學系統(tǒng)包括數(shù)值孔徑為0.02

3、光學照明系統(tǒng)和數(shù)值孔徑為0.025折疊投影系統(tǒng)進行光學性能測試。由激光經(jīng)過柱面透鏡、微透鏡陣列均束器以及投影折疊物鏡之后產(chǎn)生的能量及光束質量變化，將準分子激光光束均勻性評價指標部分運用到光學系統(tǒng)的評價之中，得到光學系統(tǒng)在不同關鍵位置的能量分布曲線以及平頂因子關系圖，表明微透鏡陣列均束器雖保證了整個光學系統(tǒng)各處光斑的均勻性，但因衍射卻造成了能量利用率的降低。同時，通過對PCB和ITO進行曝光和顯影實驗，表明我們所設計的雙遠心共焦投影光學系