電解質(zhì)-等離子機床控制系統(tǒng)設計及工藝參數(shù)研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、電解質(zhì)-等離子拋光技術是一種優(yōu)于傳統(tǒng)拋光方法,可明顯降低復雜形狀的金屬制品表面粗糙度,達到很好的拋光效果。本文首先從電化學的角度,建立了微觀工藝模型,對控制系統(tǒng)提出了工藝控制要求。
  本文根據(jù)100KW型設備的工藝控制要求和工業(yè)應用要求,采用以可編程序控制器PLC為邏輯核心的控制系統(tǒng),并對PLC控制系統(tǒng)進行了深入的研究設計。首先進行硬件總體設計,元件選型,模塊擴展構架PLC硬件系統(tǒng)。結合加工工藝過程,用梯形圖設計控制系統(tǒng)程序?;?/p>

2、本功能采用開關量接觸器控制方式,特殊模塊采用先進控制算法,主要包括溫度系統(tǒng)的模糊控制器、伺服驅(qū)動系統(tǒng)的數(shù)字PID控制器。
  在此基礎之上,本文完成了對溫度系統(tǒng)的模糊控制器、伺服系統(tǒng)的數(shù)字PID控制器的設計和實現(xiàn)。首先對模糊控制理論、PID控制規(guī)律建立控制模型;模糊控制器采用瑪達尼(Mamdani)法和重心法將模糊規(guī)則推理成表,形成模糊控制表;PID控制器是對連續(xù)性PID算法進行數(shù)字離散化,形成數(shù)字PID控制規(guī)律;在可視化HMI-

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