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文檔簡介
1、該文采用了當前最為先進的微機械加工技術.利用犧牲層方法,結合半導體平面工藝,設計制出了一種具有柵型結構的慣性敏感電容.通過有限元分析與模擬仿真,解決了傳感器動態(tài)性能設計中的有關問題,使制出樣品性能與理論設計分析十分接近,為今后此類傳感器的研究發(fā)展提供了實際可行的方法;在工藝設計方面,充分考慮了敏感電容制造工藝可能給后續(xù)電路制造工藝帶來的污染,采用了多晶硅材料,使其制造工藝方法與半導體工藝相兼容,使后續(xù)測量及信號轉換電路完全設計制造在同一
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