薄膜集成磁件結構拓撲優(yōu)化與制備工藝研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、磁性器件的集成是推進電子系統(tǒng)小型化的重要途徑之一,同時有效的磁集成技術可以降低磁性器件的損耗,提高電子系統(tǒng)整機效率。將薄膜制備技術、MEMS工藝技術和磁集成技術結合在一起制備集成磁件是磁性器件未來發(fā)展的必由之路。本文深入系統(tǒng)地研究了基于交錯并聯(lián)Buck變換器的薄膜陣列式集成磁件結構方案,并利用有限元分析軟件進行了優(yōu)化分析,為低損耗集成磁件的設計提供了技術支持;研究了采用真空磁控濺射技術制備的FeCuNbSiB和FeCoV磁性薄膜樣品,制

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