1、本文采用化學沉積法制備了Ni-P-納米TiO2復合鍍層。研究了還原劑、穩(wěn)定劑、pH值、溫度對沉積速度的影響，及表面活性劑種類、攪拌方式、溫度、納米顆粒濃度對鍍層硬度的影響，得出優(yōu)化配方。在優(yōu)化工藝條件下得到厚度為30μm，外觀平整致密的復合鍍層。鍍態(tài)和不同溫度熱處理后的復合鍍層的硬度都明顯地比Ni-P合金鍍層高。用化學法測得了鍍層中的TiO2顆粒的含量為2.14-wt％。復合鍍層熱處理1h后，進行XRD分析，發(fā)現(xiàn)在200℃左右鍍層結構開

2、始由非晶態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)榫B(tài)，升至400℃左右時鍍層完全晶化，并出現(xiàn)Ni3P相，其鍍層硬度高達Hv1100。復合鍍層的結晶溫度較Ni-P合金鍍層并未提前。在3.5％NaCl溶液中測定了合金鍍層與納米復合鍍層的自腐蝕電位，發(fā)現(xiàn)二者的值相近，且都高于鐵基體。兩種鍍層在多種腐蝕介質(zhì)中的耐蝕性相近，但復合鍍層稍差。復合鍍層在濃硝酸中的抗變色時間超過20s，其耐蝕性良好。對復合鍍層進行急冷及彎曲試驗，表面未見鼓泡、起皮、脫落及裂痕等，表明鍍層與基體結合狀