1、目的:
　　通過三維有限元分析，探討上腭微種植體間接支抗對后牙在三維方向上的支抗控制作用及其連接的最佳牙位，為正畸臨床提供參考。
　　方法:
　　通過CBCT掃描頭部獲得圖像數(shù)據(jù)，結(jié)合Mimics、Geomagic和Solidworks軟件，建立四組模擬減數(shù)第一前磨牙的上頜骨三維有限元模型，其中模型Ⅰ模擬加入托槽及0.019英寸×0.025英寸的弓絲且第二前磨牙和第一磨牙連續(xù)結(jié)扎;模型Ⅱ在模型Ⅰ的基礎上設定腭部微種植體

2、并用0.019英寸×0.025英寸的不銹鋼絲將其約束于兩側(cè)上頜第二前磨牙上;模型Ⅲ用0.019英寸×0.025英寸的不銹鋼絲將腭部微種植體約束于兩側(cè)上頜第一磨牙上;模型Ⅳ用0.047英寸×0.047英寸的不銹鋼絲將腭部微種植體約束于兩側(cè)上頜第二前磨牙上。在對上頜第二前磨牙分別施加2N近中、(牙合)向、腭向作用力條件下，使用Anasys軟件計算比較四組模型中上頜第二前磨牙及第一磨牙牙周膜應力和三維方向的位移。
　　結(jié)果:
　　

3、1、當?shù)诙澳パ朗?N近中向作用力時，與模型Ⅰ相比，模型Ⅱ第二前磨牙、第一磨牙的牙周膜最大應力分別減小了1.8％和0.3％，最大位移分別減小了0.7％和0.8％;模型Ⅲ第二前磨牙、第一磨牙的牙周膜最大應力分別減小了1.8％和0.7％，最大位移分別減小了0.8％和1.2％;模型Ⅳ第二前磨牙、第一磨牙的牙周膜最大應力分別減小了3.7％和1.7％，最大位移分別減小了3.4％和1.2％。
　　2、當?shù)诙澳パ朗?N(牙合)向作用力時，與模

4、型Ⅰ相比，模型Ⅱ第二前磨牙、第一磨牙的牙周膜最大應力分別減小了3.7％和2.4％，最大位移分別減小了3.4％和3.0％;模型Ⅲ第二前磨牙、第一磨牙的牙周膜最大應力分別減小了2.0％和1.6％，最大位移分別減小了2.1％和2.5％;模型Ⅳ第二前磨牙、第一磨牙的牙周膜最大應力明顯減小，分別為31.9％和26.2％，最大位移也明顯減小，分別為34.2％和22.0％。
　　3、當?shù)诙澳パ朗?N腭向作用力時，與模型Ⅰ相比，模型Ⅱ第二前磨牙

5、、第一磨牙的牙周膜最大應力分別減小了7.1％和2.1％，最大位移分別減小了4.6％和4.7％;模型Ⅲ第二前磨牙、第一磨牙的牙周膜最大應力分別減小了3.2％和1.6％，最大位移分別減小了2.1％和2.7％;模型Ⅳ第二前磨牙、第一磨牙的牙周膜最大應力明顯減小，分別為36.8％和31.0％，最大位移也明顯減小，分別為46.6％和30.1％。
　　結(jié)論:
　　1、腭部微種植體支抗無論連接在上頜第二前磨牙上還是連接在第一磨牙上都能增強