氧基磷灰石固體電解質(zhì)的制備和導(dǎo)電性能研究.pdf_第1頁(yè)
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1、近年來(lái)一種具有磷灰石結(jié)構(gòu)的氧離子導(dǎo)體,以氧基稀土硅化物為代表,受到了廣泛的關(guān)注。由于它們?cè)谥袦胤秶挼难醴謮合露季哂休^高的離子電導(dǎo)率和較低的活化能,有望成為新型的中溫SOFC的電解質(zhì)材料。氧基磷灰石結(jié)構(gòu)的稀土硅化物的化學(xué)通式為L(zhǎng)n10-x(SiO4)6O2±y,其中Ln為稀土或堿土金屬等,從其結(jié)構(gòu)上看存在多個(gè)位置取代的可能性,但目前有關(guān)氧離子內(nèi)在導(dǎo)電機(jī)制和摻雜物理本質(zhì)的認(rèn)識(shí)上,還有著諸多不同的觀點(diǎn)和解釋。因此,本文主要從兩個(gè)方面入手進(jìn)

2、行研究,一是針對(duì)氧基稀土硅化物磷灰石具有的一系列可替代性的特殊結(jié)構(gòu)進(jìn)行研究;二是對(duì)如何通過(guò)較為系統(tǒng)的摻雜來(lái)提高其電導(dǎo)率及摻雜后氧基稀土硅化物磷灰石內(nèi)在的導(dǎo)電機(jī)理進(jìn)行研究。
   本文首先對(duì)磷灰石系材料的研究及發(fā)展?fàn)顩r進(jìn)行了綜述。選定氧基磷灰石系列中最為簡(jiǎn)單的化合物L(fēng)a9.33Si6O26為對(duì)象,分別采用固相法、溶膠-凝膠法和熔鹽法不同的合成方法合成La9.33Si6O26粉體,并在不同的燒結(jié)溫度下制備成電解質(zhì)。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明:

3、r>   (1)用3種方法合成磷灰石相粉體的溫度分別為1400℃、900℃和900℃左右;
   (2)熔鹽法作為一種新的合成磷灰石相粉體的方法,合成的粉體直徑在250nm左右,沒(méi)有團(tuán)聚且活性最高。該法在1600℃時(shí)能將粉體燒結(jié)成很致密的陶瓷,做成電解質(zhì)的電導(dǎo)率比其它兩種方法合成的電解質(zhì)相對(duì)要高;
   (3)粉體用3種合成方法在1600℃燒結(jié)后,測(cè)試它們?cè)?00℃時(shí)的電導(dǎo)率分別為6.48×10-4S·cm-1、3.0

4、9×10-3S·cm-1和4.7×10-3S·cm-1。
   其次,對(duì)氧基硅酸鹽磷灰石進(jìn)行Ln位的取代研究。采用溶膠-凝膠法在900℃時(shí)合成Ln位摻雜的La9.33-2x/3Ax(SiO4)6O2(A=Ba、Sr、Ca、Mg;X=0,0.5,1.0,1.5,2.0),并在1450℃燒結(jié)溫度下制備成電解質(zhì),以研究不同摻雜元素以及同種元素不同摻雜量對(duì)材料電導(dǎo)率的影響。結(jié)果表明:(1)當(dāng)摻雜同一種元素時(shí),不論其離子半徑大小,La9.

5、33-2x/3Ax(SiO4)6O2的電導(dǎo)率隨著元素的摻雜量增大而降低,表明了Ln位陽(yáng)離子空位對(duì)材料電導(dǎo)率的影響,比Ln位陽(yáng)離子的摻雜而增加部分氧離子進(jìn)入間隙對(duì)材料電導(dǎo)率的影響更大,合適的Ln位陽(yáng)離子空位更有利于提高材料的電導(dǎo)率;(2)對(duì)于La9.33-2x/3Ax(SiO4)6O2,當(dāng)采用同價(jià)的堿土金屬摻雜時(shí),電導(dǎo)率與摻雜離子半徑的有較大關(guān)系。當(dāng)摻雜離子半徑大于La 離子時(shí),若有合適的陽(yáng)離子空位,摻雜后的導(dǎo)電率會(huì)大于La9.33(Si

6、O4)6O2;當(dāng)摻雜離子半徑小于La 離子時(shí),不論此時(shí)陽(yáng)離子的空位有多少,摻雜后的導(dǎo)電率都會(huì)小于La9.33(SiO4)6O2。由此可見(jiàn),La9.33(SiO4)6O2 摻雜后的電導(dǎo)率的變化受陽(yáng)離子空位多少和摻雜后晶格常數(shù)的綜合影響,其中陽(yáng)離子空位對(duì)電導(dǎo)率的影響要更大。
   第三,研究并合成了在Si位Ga、Al、B 摻雜及不同組分的La9.33+x/3(SiO4)6-x(AO4)xO2(A=Ga,Al,B;X=0,0.5,1.

7、0,1.5,2.0)電解質(zhì)樣品。
   經(jīng)過(guò)電導(dǎo)率的測(cè)量,結(jié)果表明:(1)摻雜離子半徑為大于Si的Ga 或者Al 元素時(shí),摻雜后使電導(dǎo)率有較大的增加;(2)當(dāng)摻雜元素為離子半徑小于Si的B 時(shí),適量的摻雜量可以略微增加其電導(dǎo)率;(3)總體看來(lái),La9.33+x/3(MO4)6O2 磷灰石材料中,在M位采用低價(jià)大離子半徑元素適當(dāng)摻雜后可以使其電導(dǎo)率增大很多;而在M位采用低價(jià)小離子半徑元素適當(dāng)摻雜后可以略微增加其電導(dǎo)率。
  

8、 再者,研究了采用固相法合成La9.33+x/3(Si0.5Ge0.5O4)6-x(GaO4)xO2(x=0,1.0,1.5,2.0)粉體的工藝,同時(shí)還合成了La9.67(Si0.5Ge0.5O4)5(AO4)O2(A=Al,B),并制備成電解質(zhì)。經(jīng)過(guò)電導(dǎo)率測(cè)量,結(jié)果表明:(1)同時(shí)引入適量的Ge、Ga后,電導(dǎo)率較單獨(dú)Ge、Ga的加入要增大許多;(2)當(dāng)引入Ge 時(shí),同時(shí)也引入離子半徑小于Si的摻雜元素B,如適量的摻雜可以略微增加其電

9、導(dǎo)率;(3)同時(shí)引入離子半徑大于Si的摻雜元素如Ga、Al,其電導(dǎo)率增加較大。
   總體研究表明:(1)對(duì)于氧基磷灰石Ln10-x(SiO4)6O2±y 材料,在Ln位采用大離子半徑元素適量摻雜后可以使其電導(dǎo)率增大,而采用小離子半徑元素?fù)诫s后其電導(dǎo)率都減少。(2)在M位采用低價(jià)小離子半徑元素適當(dāng)摻雜后可略微增加其電導(dǎo)率;
   在M位采用低價(jià)大離子半徑元素適當(dāng)摻雜后可以使其電導(dǎo)率有較大的增加;而在M位采用Ge和其他元素

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