1、三甲基鋁是一種高純金屬有機化合物（簡稱MO源）。是制造高亮度發(fā)光二級管（LED）、新一代太陽能電池、相變存儲器、半導體激光器、射頻集成電路芯片等的核心原材料之一。在半導體照明、信息通訊、航天等領域都有著重要應用。還在“神州”飛船，“東4”大衛(wèi)星平臺系列衛(wèi)星等航天器的太陽能電池上成功運用，徹底打破了國外在這一重要國防科技領域對我國的封鎖。研究表明，三甲基鋁MO源品質純度要求非常高，其中的痕量雜質對半導體材料的電學、光學性能有著至關重要的影

2、響，一旦達不到要求，則會對下游外延片生長帶來致命的缺陷。因此，MO源三甲基鋁中的痕量雜質分析是一個重要的研究課題。近年來，隨著LED爆發(fā)式的發(fā)展，MO源需求不斷增加，我國實現(xiàn)MO源國產(chǎn)化對發(fā)展我國半導體產(chǎn)業(yè)、提高國防實力、推動我國光電子及微電子產(chǎn)業(yè)發(fā)展具有重大意義。
　　三甲基鋁中的雜質分為無機雜質和有機雜質，分別采用不同的分析儀器進行測量。電感耦合等離子體院子原子發(fā)射光譜（ICP-OES），給無機痕量雜質分析提供了快速有效的分析