1、大面積高精度平面光柵在高端光刻機工件臺、慣性約束核聚變以及大型天文望遠鏡等重大民生及國防科學領域具有不可替代的作用，國家的諸多重大工程建設項目對這類光柵有著非常迫切的需求。然而由于技術與產品禁運，我國不得不自行研制生產這類高技術難度的平面光柵。
　　目前平面光柵的制作方法中， MIT的Schattenburg課題組所采用的掃描干涉光刻法制作出的光柵面積最大，同時精度也非常高。該技術利用工件臺承載基底相對于直徑僅為2mm左右的曝光圖

2、像做步進掃描運動實現(xiàn)大口徑光柵的制造。該技術的核心在于通過相關的圖像鎖定技術抑制曝光圖像上干涉條紋相對于曝光基底的漂移，而從形成方式上區(qū)分，條紋漂移又可分為干涉條紋自身的漂移以及曝光圖像整體相對于曝光基底的漂移。在光刻系統(tǒng)中如何降低上述條紋漂移誤差是提高曝光光柵圖像精度的關鍵，這將直接影響成品光柵的各項精度指標。
　　本文圍繞清華大學王磊杰提出的基于零差圖像鎖定技術制作光柵的掃描干涉光刻系統(tǒng)方案，把對光刻精度影響最大的干涉圖像條紋

3、漂移誤差分為三種類型，并由此展開，詳細分析了相位測量框架、光柵位移測量干涉儀模塊以及工件臺剛體運動引入的測量誤差以及由此間接對條紋穩(wěn)定性造成的影響，給出了必須在掃描干涉光刻機設計中予以重視的相關測量誤差。此外，以現(xiàn)有零差圖像鎖定驗證實驗裝置為分析對象，對掃描干涉光刻中的相關光學元件的高頻振動直接引起的條紋漂移誤差進行了分析，得到了光學元件振動與條紋漂移間的傳遞關系，同時分析得出系統(tǒng)設計中應該避免并且會引入高頻條紋漂移誤差的結構弱點。最后

4、以條紋漂移誤差分析為基礎，建立了一套在掃描干涉光刻機中抑制條紋漂移誤差的整體優(yōu)化設計方案，包括對剛體運動引起的測量誤差以及反饋控制難以抑制的高頻條紋漂移誤差的抑制。并且對關鍵優(yōu)化方法設計了相應的單元實驗驗證方案，實驗結果顯示，因測量光柵相對于光柵干涉儀剛體偏轉引起的測量誤差大幅下降，同時零差圖像鎖定誤差從未優(yōu)化前的46.1mrad(3σ)下降到了6.5mrad(3σ)。以上結果均很好的驗證了文中所提出的優(yōu)化方案的可行性，為今后的掃描干涉